Plasma Etching
Af
- Format
- Bog, hardback
- Engelsk
Normalpris
kr. 2.224,95
Medlemspris
kr. 2.159,95
- Du sparer kr. 65,00
- Fri fragt
-
Leveringstid: 7-9 Hverdage (Sendes fra fjernlager) Forventet levering: 03-03-2026
- Kan pakkes ind og sendes som gave
Beskrivelse
The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.
Detaljer
- SprogEngelsk
- Sidetal360
- Udgivelsesdato28-05-1998
- ISBN139780198562870
- Forlag Oxford University Press
- MålgruppeFrom age 0
- FormatHardback
Størrelse og vægt
10 cm
Anmeldelser
Vær den første!
Log ind for at skrive en anmeldelse.
Findes i disse kategorier...
- Fagbøger
- Andre fagbøger
- Teknologi, ingeniørvidenskab og landbrug
- Maskinteknik og materialer
- Materialelære
- Plasma Etching
- Fagbøger
- Andre fagbøger
- Teknologi, ingeniørvidenskab og landbrug
- Elektronik og kommunikationsteknik
- Elektroteknik
- Elektronik: kredse og komponenter
- Plasma Etching